一、概述

 SE-m 是一款针对半导体行业定制的微区图形结构测量的专用型光谱椭偏仪，其采用行业最新椭偏创新技术，自主独立研发出行业领先 1  超小微光斑探测测量技术， 2 定制超快测量速度，等领先技术。可应用透明各类衬底上的减反膜、导电膜等薄膜的n/k/d测量，完美适用于微区图形的各种光学参数解析。

二、特色功能

• 可定制光斑尺寸，最小可达30um；
• 超快测量，单次测量时间小于0.5秒 ；
• 系列配置灵活，支持功能定制设计；
• 结构紧凑，更适应在线集成测量.

三、测量实例

微区图形结构测量

四、应用场景 

应用于光学常数测量，完美适用于各类光学薄膜等镀膜检测应用。